有兴趣的可以看看，了解一下目前在突破2纳米光刻技术上所遇到的挑战

[James (Zhang Jing)]

New Challenges Emerge With High-NA EUV

[阿嘉韦隆 (风归未央)]

很好的文章，不过太专业了。

文章说明有了高端EUV后，并不代表一切，后面还有光刻胶和抗蚀剂，也就是具体的工艺选择。